（独家）没EUV仍要冲　中国DUV直攻3纳米GAA官宣开发完成

中国半导体先进制程研发再释出重大进展。中国中科院微电子所已针对3纳米以下先进制程，建立一条不以极紫外光（EUV）曝光机为核心的GAA元件研发路径。

申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)

会员信箱：
member@digitimes.com
(一个工作日内将回覆您的来信)

申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)

会员信箱：
member@digitimes.com
(一个工作日内将回覆您的来信)