應材50億美元打造EPIC中心、串連五大晶片廠 重塑半導體材料到量產研發模式半導體設備大廠應用材料(Applied Materials)於美西時間10月12日正式揭幕設備與製程創新暨商業化中心(Equipment and Process Innovation and Commercialization; EPIC)。此座位於美國加州Sunnyvale
High-NA EUV接班人浮現 ASML Hyper NA挑戰5奈米單次曝光ASML與光學合作夥伴蔡司(Zeiss)的工程師團隊,近日於學術期刊《Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology》10月號共同發表研究論文,正式揭露現行高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)曝光機的下一代技術「超高數值孔徑極紫外光(Hyper NA