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三星晶圆代工高层:3纳米以下制程DTCO效能改善达5成

  • 蔡云瑄综合报导

三星电子(Samsung Electronics)晶圆代工预期,在3纳米以下制程中,设计与技术协同优化(Design-Technology Co-Optimization;DTCO)对效能提升的贡献度将达50%。当前先进制程竞争中,三星正以环绕式闸极(GAA)、...

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