Canon研发喷墨式晶圆平坦化技术 力拼2027年产品化
- 江仁杰/综合报导
Canon于1月13日宣布研发出一种在半导体制造过程中,能将晶圆表面凹凸处均匀平坦化的新技术,利用纳米压印微影(Nano-imprint Lithography;NIL)技术,以喷墨技术喷涂树脂材料后,再像盖印章一样压上玻璃板使其平滑。将表面的凹凸控制在5纳米以下...
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