爱德万测试发表先进光罩CD-SEM「E3660」

爱德万测试推出新一代光罩CD-SEM「E3660」，支持2纳米节点，测量性能全面升级。爱德万测试

半导体测试设备领导供应商爱德万测试（Advantest Corporation）近日隆重宣布，推出专为先进半导体制程光罩和极紫外光（EUV）光罩之精密尺寸量测所设计的次时代CD-SEM E3660。

与前代E3650相比，E3660在关键尺寸（CD）再现性上提升逾20%，帮助制程工程师满足2纳米节点及更先进制程对光罩制造的严格要求。透过强化先进元件制造中的微影制程控制，E3660进一步实践了爱德万测试在半导体价值链中提供全面性测试解决方案的愿景。

在先进半导体元件制造中，随着制程不断微缩、图样日益复杂，微影热点急剧增加，这些区域在多重曝光及图样转移过程中特别容易产生错误。再加上用于形成晶圆电路图的光罩持续演进，层数更多、几何更加精细。有鉴于此，需要进行尺寸量测的位置大幅增加，量测系统不仅要满足高产出要求，还要具备更优异的再现性。

此外，在多光束光罩写入技术及高效能运算能力持续发展下，业界也开始逐步导入曲线式光罩图样。这类图样预计在2027年前后，将随着元件制造采用高数值孔径（High Numerical Aperture）EUV微影技术而被大量部署。

为确保在上述背景下仍能维持「设计到光罩」（design-to-mask）的一致性，CD-SEM不仅需提供具高再现性的关键尺寸量测结果，还要产出更能真实呈现图样轮廓的电子显微镜（SEM）影像。不仅如此，量测解决方案亦须进化，结合能够评估复杂光罩特性与原始设计意图间之偏差的曲率敏感演算法 （curvature-sensitive algorithm）。

在E3660的研发过程中，爱德万测试与领先全球的纳米电子与数码技术研究创新中心Imec合作，验证E3650与前代CD-SEM及基于EDA（电子设计自动化）参考数据所产出之CD-SEM结果间的关联性。这项合作帮助爱德万测试提升了量测可靠性，并与Imec携手开发及验证针对曲线几何的创新量测技术。

最新E3660平台正是此合作的成果，实现了2纳米节点光罩制造所需的高再现性、因应日益增加之量测位置的高产出量测能力，并针对曲线图样提供独特量测功能。透过整合上述技术，E3660将为下一代光罩研发与生产环境提供强大的量测支持。

爱德万测试初步将锁定独立光罩厂（Merchant Mask Shop）和自制光罩厂（Captive Mask Shop）为E3660部署目标。前者是为外部客户生产光罩的专业制造商；后者则是半导体制造厂自有的光罩生产设施。此一部署策略将E3660定位为先进光罩开发与生产合格试验的关键评估工具。