华为2022年申请专利曝光 DUV绕过EUV挑战2纳米级制程
- 徐畇融／综合外电
中国国家知识产权局的一项专利文件显示，华为最初于2022年6月提出一项申请，似乎已研发出不使用极紫外光（EUV）曝光机，仅凭深紫外光（DUV）工具机就实现2纳米级线宽金属图案化的技术，引发半导体业界关注。南华早报报导，这套采用改良...
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