韩国EUV需求成长超越台湾 雷射大厂：High-NA将成主流、未来两年是关键
- 郭静蓉／德国
生成式AI、高效能运算（HPC）与先进制程竞赛持续升温，带动High-NA EUV光刻设备成为全球半导体设备产业下一波焦点。作为ASML EUV光源核心供应商，德国雷射大厂...
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