迎战异质整合!Siemens 3D IC解决方案加速先进封装创新 智能应用 影音
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迎战异质整合!Siemens 3D IC解决方案加速先进封装创新

  • 陈俞萍台北

Siemens EDA于2026年4月22日在新竹举办「3D IC 系统设计验证大会」,吸引超过300位IC设计与先进封装领域专业人士参与,聚焦3D IC与Chiplet设计与验证关键技术。Siemens
Siemens EDA于2026年4月22日在新竹举办「3D IC 系统设计验证大会」,吸引超过300位IC设计与先进封装领域专业人士参与,聚焦3D IC与Chiplet设计与验证关键技术。Siemens

随着AI运算需求持续攀升,3D IC与Chiplet架构正快速成为半导体产业的关键发展方向。透过2.5D/3D封装整合多晶粒(Multi-die),可大幅提升效能与带宽并降低延迟,但同时也带来散热、电源完整性与可靠度等设计挑战,促使产业从传统芯片优化迈向系统层级整合(System Technology Co-Optimization;STCO)。

从设计初期导入数码孪生  加速3D IC系统规划

面对3D IC高度复杂的整合需求,设计流程正加速「左移」,将关键分析提前至规划阶段。Siemens EDA指出,透过数码孪生(Digital Twin)技术,可在设计初期建立完整系统模型,整合晶粒、封装与系统层级信息,让工程团队能实时评估不同设计情境并进行优化。

以Innovator3D IC平台为核心,设计团队可整合Bump Map、Netlist、材料参数与设计流程数据,建立跨工具、跨领域的统一设计环境,并串联从规划、实作到签核与制造移转的完整流程。此一平台化架构有助于提升设计可视性与协同效率,并降低反覆修改所带来的成本与时程风险,朝「第一次设计就成功」迈进。

多物理验证前移 热与可靠度成为关键瓶颈

随着晶粒堆叠密度提升,热效应、电源完整性与机械应力等多物理议题,已成为影响3D IC设计成败的关键因素。相关验证流程也从后段签核逐步前移至设计初期,协助工程师及早掌握潜在风险。

透过整合可靠度分析、热模拟与电源完整性分析等技术,设计团队可针对静电放电(ESD)、电迁移(EM)与压降(IR Drop)等问题,进行跨晶粒与封装层级的分析与验证。这类多物理验证流程的整合,使工程师能在设计早期即预测并修正问题,避免后段修改所带来的高成本与设计延迟。

UCIe与DFT推动标准化 完善Chiplet生态系

在Chiplet架构逐渐成熟的同时,高速界面与测试技术也成为不可或缺的基础。针对数据密集型应用所需的晶粒间互连,透过支持UCIe(Universal Chiplet Interconnect Express)标准的验证解决方案,可协助设计团队确保互通性并提升系统扩展弹性。

此外,在3D IC测试方面,透过支持IEEE 1838等标准的DFT(Design for Test)技术,可有效解决多晶粒堆叠架构下的测试存取与验证挑战,确保每一颗晶粒与模块在封装后仍具备完整的可测试性与品质保障,进一步强化Chiplet生态系的发展基础。

以AI与平台化整合 驱动3D IC设计迈向新时代

整体而言,3D IC设计正从单一芯片优化,转向跨晶粒、跨封装与跨领域整合的系统层级设计模式。随着设计复杂度快速提升,结合AI、自动化流程与数码孪生技术的平台化解决方案,已成为加速创新与确保产品可靠度的关键。

Siemens EDA透过整合设计、验证与测试的完整3D IC解决方案,协助客户在设计初期即掌握多物理风险,提升跨团队协同效率,并加速先进封装与Chiplet应用的落地。

欲进一步了解Siemens EDA在3D IC、Chiplet与先进封装设计与验证上的完整解决方案,欢迎前往官方网站,了解更多技术信息与应用案例,或与Siemens EDA团队联系,探索如何加速您的产品开发流程并降低设计风险。