无化学清洗时代来临：Magic Tube带负电纳米气泡引领晶圆洁净革新

无化学清洗时代来临：Magic Tube带负电纳米气泡引领晶圆洁净革新。台湾日脉

随着先进制程对洁净度与环保标准的双重要求不断提升，半导体产业正积极寻求高效、无污染的清洗解决方案。近期，一项能在每毫升纯水中释放多达8亿个带负电纳米气泡（nanobubbles）的创新技术，成功吸引业界关注。

NDS台湾日脉所引进的日本Magic Tube采用特殊专利内部结构设计，其出口形成类似龙卷风（tornado）效应，可在不需额外能量的情况下，仅以一般水压即可于流动中自然生成大量稳定的纳米级气泡。

该技术利用一般水压，透过Magic Tube来产生稳定且均匀的纳米级气泡。这些气泡不仅尺寸小于0.1微米，其表面还带有负电位，可吸附水中污染物与表面残留，加强剥离效果。

当纳米气泡在物体表面破裂时，会同步释放出微小震动与气流效应，进一步提升洗净力，能有效去除晶圆、制程设备、储槽与管线内壁上的微粒与化学残留，全程不需使用任何化学药剂，即可达成高效清洗，实现环保且非破坏性的制程需求。此技术特别适用于先进封装、石英晶体元件清洗、EUV光罩处理、CMP后清洗等高精密应用领域。

相较以化学清洁剂与大量纯水为主的清洗方式，纳米级气泡清洗不仅能降低耗材与用水量，也减少废液处理成本，契合晶圆厂净零碳排与绿色制程推动方向。该系统已可模块化导入既有设备流程，不需大规模修改管线或机台，大幅降低导入门槛。

目前已有多家IDM与晶圆代工厂导入测试，数据显示，纳米级气泡清洗在不影响产线良率下，能延长设备维护周期，提升运转稳定性。随技术成熟与量产成本下降，预期该技术将成为5纳米以下制程中，替代部分湿式化学清洗的关键选项。

此次九月台湾半导体展，NDS台湾日脉也将展示完整清洗解决方案，欢迎莅临摊位号：M1158（南港展览馆1馆4F）与我们交流指导。详细信息请洽NDS台湾日脉。