JX金属拟出资Rapidus约50亿日圆 规划供应芯片材料溅镀靶材
- 江仁杰／综合报导
JX金属（JX Nippon Mining & Metals）正研议向日本半导体厂Rapidus出资50亿日圆（约3,300万美元），并向Rapidus供应溅镀靶材（Sputtering Target）。日经新闻（Nikkei）报导，Rapid...
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