科技1分钟：G2蚀刻气体
- 张庭瑜
G2是由三星电子（Samsung Electronics）与日本大金工业（Daikin Industries）共同开发的新型半导体蚀刻制程用替代气体，主要应用于先进逻辑与存储器制程的蚀刻步骤。其开发目的在于，取代既有具高温室效应潜势的蚀刻气体—全氟碳化物（...
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