英飞凌12寸氮化镓生产路线图取得进展 稳坐GaN领先企业地位 智能应用 影音
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英飞凌12寸氮化镓生产路线图取得进展 稳坐GaN领先企业地位

  • 陈俞萍台北

Infineon GaN300 technology。英飞凌
Infineon GaN300 technology。英飞凌

氮化镓(GaN)半导体需求持续成长,英飞凌科技股份有限公司(FSE代码:IFX / OTCQX代码:IFNNY)掌握此一趋势,巩固其作为GaN市场领先垂直整合制造商(IDM)的地位,宣布其在12寸晶圆上的可扩展GaN生产进度正按计划进行。预计2025年第4季度将向客户提供首批样品,英飞凌有望扩大客户基础,进一步巩固其作为GaN领先企业的地位。

作为电源系统领域的领导者,英飞凌专精于三种材料的相关技术:矽(Si)、碳化矽(SiC)和氮化镓(GaN)。

凭藉更高的功率密度、更快的开关速度和更低的功率损耗,氮化镓半导体可实现更精简的设计,从而减少智能手机充电器、工业和人形机器人,以及太阳能逆变器等电子设备的能耗和热量产生。

英飞凌氮化镓业务线负责人Johannes Schoiswohl表示:「英飞凌全面扩大的12寸GaN生产规模将协助我们更快地为客户提供更高价值的产品,同时推动Si和GaN同类产品的成本接近性。在英飞凌宣布突破12寸GaN晶圆技术近一年后,我们很高兴看到我们的时程进展顺利,并且业界已经认可英飞凌GaN技术在我们作为IDM战略优势下所发挥的重要作用。」

英飞凌的生产策略主要依据IDM模式,即拥有从设计、制造和销售最终产品的整个半导体生产流程。公司的内部生产策略是市场上的一个关键差异化因素,具有多重优势,如能提供更高品质的产品、更快的产品上市时间以及出色的设计和开发灵活性。英飞凌致力于为氮化镓客户提供支持,并可扩大产能以满足他们对可靠的GaN电源解决方案的需求。

凭藉其技术领先优势,英飞凌已成为首家在现有大批量生产基础设施内成功开发出12寸GaN功率晶圆技术的半导体制造商。与现有的8寸晶圆相比,12寸晶圆上的芯片生产在技术上更加先进,效率也显着提高,因为更大的晶圆直径可使芯片生产效率提高2.3倍。

这些增强的能力,加上英飞凌强大的GaN专业团队,以及业界最广泛的知识产权组合,恰好可以满足基于GaN的功率半导体在工业、汽车、消费、运算和通讯等领域快速普及,包括AI系统电源、太阳能逆变器、充电器和适配器以及马达控制系统等。

市场分析师预测, GaN在功率应用领域的营收将以每年36%的速度成长,到2030年达到约25亿美元。英飞凌拥有专有的生产能力和强大的产品组合,2024年发布了40多款新型GaN产品,这使其成为寻求高品质GaN解决方案客户的首选合作夥伴。